氧化铜矿床是一种通过表生作用形成的矿床，是原生硫化铜矿长期风化、侵蚀、氧化的产物。氧化铜矿床一般距离地表较近，裂隙较发育，断裂层较多，易接触空气，地下水位低。氧化铜矿形成特征介绍如下。

氧化带特征

氧化矿通常赋存于矿体上部，氧化带一般深10～100m，部分达到数百米，沿矿体构造破碎带延伸。自然界中纯氧化矿或纯硫化矿较少，一般氧化矿和硫化矿互含，从矿体上部到下部，氧化率逐渐降低。按矿石中氧化铜所占比例分类，氧化率≤30％称为硫化矿；氧化率>30％称为氧化矿。

氧化带由上到下可分为：①氧化淋滤带；②次生氧化铜矿富集带；③次生硫化铜矿富集带；④原生硫化铜矿带。

氧化淋滤带位于矿体的上部，矿体受到空气氧化作用后，原生硫化铜矿被分解淋滤，铜矿物以游离氧化铜矿及结合氧化铜矿为主。

次生氧化铜矿富集带位于淋滤带下部，主要为含铜氧化物，脉石以褐铁矿为主。

次生硫化铜富集带位于次生氧化铜富集带之下，由原生硫化铜及次生硫化铜组成，氧化铜矿物较少。次生硫化矿物主要有：辉铜矿、铜蓝。

原生硫化铜矿带位于矿体最下部，原生硫化矿物主要有：黄铜矿、斑铜矿、硫砷铜矿。