氧化铜矿床是一种通过表生作用形成的矿床,是原生硫化铜矿长期风化、侵蚀、氧化的产物。氧化铜矿床一般距离地表较近,裂隙较发育,断裂层较多,易接触空气,地下水位低。氧化铜矿形成特征介绍如下。
氧化带特征
氧化矿通常赋存于矿体上部,氧化带一般深10~100m,部分达到数百米,沿矿体构造破碎带延伸。自然界中纯氧化矿或纯硫化矿较少,一般氧化矿和硫化矿互含,从矿体上部到下部,氧化率逐渐降低。按矿石中氧化铜所占比例分类,氧化率≤30%称为硫化矿;氧化率>30%称为氧化矿。
氧化带由上到下可分为:①氧化淋滤带;②次生氧化铜矿富集带;③次生硫化铜矿富集带;④原生硫化铜矿带。
氧化淋滤带位于矿体的上部,矿体受到空气氧化作用后,原生硫化铜矿被分解淋滤,铜矿物以游离氧化铜矿及结合氧化铜矿为主。
次生氧化铜矿富集带位于淋滤带下部,主要为含铜氧化物,脉石以褐铁矿为主。
次生硫化铜富集带位于次生氧化铜富集带之下,由原生硫化铜及次生硫化铜组成,氧化铜矿物较少。次生硫化矿物主要有:辉铜矿、铜蓝。
原生硫化铜矿带位于矿体最下部,原生硫化矿物主要有:黄铜矿、斑铜矿、硫砷铜矿。