氧化铜矿氨浸
氨是铜、镍、钴等氧化矿石的有效浸出剂，铜在氨溶液中形成稳定的可溶性铜氨络离子。氨配位数越多，铜氨络离子越稳定，铜氨络离子常见配位数是4，属d 9 型的正方形络合物，稳定性较好。稳定的铜氨络离子有利于提高浸出效果，自然铜与氧化铜用氨浸出，浸出剂为氨-碳酸铵溶液。氧化铜氨浸主要化学反应方程式如下：
CuO+2NH 4 OH+（NH 4 ） 2 CO 3 ＝Cu（NH 3 ） 4 CO 3 +3H 2 O
2CuCO 3 ·Cu（OH） 2 +10NH 4 OH+（NH 4 ） 2 CO 3 ＝3Cu（NH 3 ） 4 CO 3 +12H 2 O
CuSiO 3 ·H 2 O+2NH 4 OH+（NH 4 ） 2 CO 3 ＝Cu（NH 3 ） 4 CO 3 +H 2 SiO 3 +3H 2 O
Cu+Cu（NH 3 ） 4 CO 3 ＝Cu 2 （NH 3 ） 4 CO 3
2Cu 2 （NH 3 ） 4 CO 3 +4NH 4 OH+2（NH 4 ） 2 CO 3 +O 2 ＝4Cu（NH 3 ） 4 CO 3 +6H 2 O
在氨浸料液中，二价铁氨离子容易被空气氧化为三价铁，形成氢氧化铁沉淀进入渣中。铜氨络离子稳定，氨浸选择性高，可以得到较纯净的浸出料液。
常压氨浸时，温度40～50℃，NH 4 OH浓度0.3～0.8mol/L,（NH 4 ） 2 CO 3 浓度3～5mol/L，浸出液pH8.8～9.5。选择搅拌浸出方式、搅拌浸出桶、浓密机上口使用水密封，防止氨气挥发损失。铜氨浸出液使用萃取-电积工艺生产电积铜。